Изучены изменения свойств буферной плазмы высокочастотного разряда в зависимости от значения разности потенциалов прикладываемого дополнительного постоянного тока. Получены зависимости пространственного положения пылевых частиц от прикладываемого постоянного напряжения. Определены основные характеристики буферной и пылевой плазмы. Предложена численная модель для описания основных свойств комплексной плазмы высокочастотного емкостного разряда под влиянием дополнительного постоянного электрического поля. Исследованы статические, микроскопические, транспортные и оптические свойства низкотемпературной плазмы.
