Проведены исследования механизма криоосаждения тонких пленок криоконденсатов п-ксилилена. Температура конденсации Тс=78К. Изучены термостимулированные релаксационные, полимеризационные процессы в криоконденсатах п-ксилилена в интервале температур 78-273 К. Проведены исследования влияния концентрации паров металлов в криоматрице п-ксилилена на термостимулированные релаксационные процессы в двухкомпонентной пленке. Изучены процессы получения и криосаждения тонких пленок криоконденсатов п-ксилилена. Изучены термостимулированные релаксационные и полимеризационные процессы в криоконденсатах п-ксилилена. Установлено влияние основных колебательных мод криоконденсатов дипольных молекул на структурные превращения в процесс термоциклирования. *
