Проведены анализ плазменно-пылевых структур в смеси CH[4]+Ar, электрическая и оптическая диагностика буферной и пылевой плазмы. Рассчитаны температура и концентрация электронов плазмы при разных давлении и мощности. Исследована зависимость нормальной плотности тока от давления газа.
