Собрана установка вакуумной жидкостной эпитаксии. Проведены эксперименты по гетероэпитаксиальному выращиванию пленочных структур. Изучены условия вакуумной декомпозиции подложек AB. Оценена толщина свободных наноразмерных пленок, полученных методом отделяемого роста из раствора-расплава. Осуществлено моделирование процесса образования свободных монокристаллических пленок соединений AB. Выявлена зависимость толщины наноразмерных подложек от состава жидкой фазы. Уточнены технологические режимы формирования свободно расположенных наноподложек.
