Освоена технология производства прецизионных металлизированных фотошаблонов для полузаказных БИС частного применения. Представлен комплект документации. Даны анализ развития технологии переноса изображения на поверхность полупроводниковой пластины, перечень и характеристики современного литографического оборудования.