Исследованы технологические режимы роста тонких пленок оксидов металлов (олово, цинк), осажденных ионно-лучевым и магнетронным распылением на подложки из различных материалов. Определены поверхностное сопротивление, оптическая прозрачность, фоточувствительность, электрические характеристики пленок.